目录文档-技术白皮书37-EFT.WP.EDX.HighSpeed v1.0

第13章 EMI/EMC 协同(与 EDX.EMI)


I. 章节目标与结构

  1. 目标:在高速场景下,将发射(Emission)与抗扰度(Immunity)与本卷的路径—到达时—模态—阻抗—辐射修正框架协同,建立 ΔZ_rad(omega)—近/远场—共模电流 I_CM(omega) 的一致性映射与验收门限;对接《EFT.WP.EDX.EMI v1.0》的评估流程与记录口径。
  2. 结构:变量与域 → 协同映射与接口 → 工程实现与记录 → 可证伪准则 → 合规模板 → 跨章闭环。
  3. 共享到达时两口径(等价,须显式 gamma(ell) 与 d ell,并记录 delta_form):
    • 常量外提:T_arr = ( 1 / c_ref ) * ( ∫ n_eff d ell )
    • 一般口径:T_arr = ( ∫ ( n_eff / c_ref ) d ell )

II. 变量与域(Symbols & Domain)

协同映射与接口(与 EDX.EMI 卷对齐)

EMI-1(辐射正实修正与场量协同)
Z_eft(ω) = Z_ref(ω) + ΔZ_T(ω) + ΔZ_rad(ω),Re{ΔZ_rad(ω)} ≥ 0;等效辐射功率
P_rad(ω) ≈ (1/2) · Re{ΔZ_rad(ω)} · |I_port(ω)|^2,
与 |E_rad|/|H_rad| 的频率趋势保持单调一致。

EMI-2(路径—权重—辐射通道联动)
启用外泄路径 γ_side 时,w_{side}(ω) 上升且 ΔW = Σ_{p,m}|w_{p,m}(ω2)-w_{p,m}(ω1)| 增大;封堵/回流闭合应使 Re{ΔZ_rad} 与 ΔW 同向下降。

EMI-3(抗扰度通道的反向一致性)
外部注入 E_ext/H_ext、端口共模源或缆束耦合导致 w_{p,m} 向开口/缝隙路径迁移、T_arr 与 arg Z_eft 平移;注入强度与 Δarg Z、T_group 偏移呈可校准关系。

EMI-4(S↔Z 与混合模归一)
发射/抗扰数据与 S 参数需在相同归一化与端口基下映射到 Z_eft(ω);混合模(DM/CM)优先于端口域归一,之后再投回物理端口;映射后通过 passivity/KK。


III. 工程实现与记录(最小执行口径)


IV. 可证伪准则(本章对应)


V. 合规模板(可直接粘贴)


VI. 跨章引用与闭环


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首次发布: 2025-11-11|当前版本:v5.1
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