目录 / 文档-技术白皮书 / 37-EFT.WP.EDX.HighSpeed v1.0
I. 章节目标与结构
- 目标:固化高速场景下从采集/仿真到 Z_eft(omega)、T_arr、T_group、E_phase/GDR 的对齐与计量链,包含端口一致化、去嵌与归一、时间基改正、路径改正与相干窗评估,以及不确定度预算与发布 QA。
- 结构:变量与域 → 计量链流程 → 不确定度预算 → 记录与 QA → 可证伪准则 → 合规模板 → 跨章闭环。
- 共享到达时两口径(等价,须显式 gamma(ell) 与 d ell,并记录 delta_form):
- 常量外提:T_arr = ( 1 / c_ref ) * ( ∫ n_eff d ell )
- 一般口径:T_arr = ( ∫ ( n_eff / c_ref ) d ell )
II. 变量与域(Symbols & Domain)
- 频域自变量:omega;相位单位 rad。
- 端口与映射:S(omega)、Z_eft(omega)、Znorm(omega)、Z_c(omega)。
- 同步与路径:Δt_sync、gamma(ell)、d ell、binding_ref、w_{p,m}(omega)。
- KPI:T_group(omega)=d/domega(arg Z_eft)、E_phase、GDR、ΔW。
- 辐射门(如启用):ΔZ_rad(omega) 且 Re{ΔZ_rad} ≥ 0。
- 硬门:check_dim=pass、passivity(Re{Z_eft}≥0)、KK_consistency=pass、两口径 T_arr 一致。
III. 计量链流程(执行口径)
- 端口一致化(Port Harmonization)
对齐端口命名与方向;统一参考阻抗/混合模基 T_mm(若用)。输出 ports_aligned。 - 去嵌与归一(De-embed & Renorm)
S_aligned = deembed(S_raw, fixture);S_renorm = renorm(S_aligned, Znorm(omega))。记录 fixture/baseline_id/Znorm 版本与文件哈希。 - S→Z 映射(见第8章)
Z_eft = Z0^{1/2}(I+S)(I−S)^{-1}Z0^{1/2};混合模先转 S_mm 再映射。立即执行 passivity 与 KK_consistency。 - 时间基改正(Sync Correction)
arg Z_corr(omega) = arg Z_raw(omega) − ( omega · Δt_sync );Δt_sync 来自公共时钟/触发测量。 - 路径改正(Path Correction)
依据 binding_ref 将布局映射为 {γ_p};写入 arrival{form,gamma,measure,c_ref,Tarr,u_Tarr,delta_form};两口径 T_arr 一致性检查通过后进入 KPI。 - 相干窗评估(见第7章)
选取 Ω=[ω1,ω2] 使 E_phase(Ω)、GDR(Ω) 达标;必要时分段多窗口。 - KPI 计算与一致性
T_group = d/domega(arg Z_eft);验证 T_group ≈ L·dβ/dω(若 β 可得);统计 ΔW。 - 辐射通道(若启用)
估计 ΔZ_rad = Z_eft − (Z_ref+ΔZ_T);验证 Re{ΔZ_rad} ≥ 0 与封堵前后单调性;再次通过 passivity/KK。 - QA 汇总与出具数据卡
输出 dataset_card/pipeline_card/env_lock/qa_gates,连同 arrival、Z_eft、T_group、E_phase/GDR、(可选)β 与 Z_c(ω)。
IV. 不确定度预算(最小合成)
- 到达时
- u^2(T_arr) ≈ Σ_i ( (Δell_i/c_ref)^2 · u^2(n_eff(i)) + ( n_eff(i)/c_ref )^2 · u^2(Δell_i) ) + u^2(Δt_sync)
- 相位与群时延
- u^2(arg Z) ≈ u^2(arg Z)_inst + (omega^2 · u^2(Δt_sync)) + u^2(KK_fit)
- u^2(T_group) ≈ Var_numdiff(arg Z, ω) + map(β)误差项(若用)
- 映射与归一
u(Z_eft) 来自 u(S) 的线性传播与 Znorm 不确定度;近奇异处加入正则项误差。 - 记录要求:在数据卡中列出 u(T_arr)、u(arg Z)、u(T_group)、u(n_eff) 的来源与数值;门限不满足不得发布。
V. 记录与 QA(与数据卡/管线卡对齐)
- 必填字段:
S(omega)、Znorm(omega)、deemb{method,version,artifact,baseline_id}、sync{dt_sync_s}、binding_ref、
arrival{form,gamma,measure,c_ref,Tarr,u_Tarr,delta_form}、Z_eft{real,imag}、argZ、T_group_s[]、E_phase、GDR、(可选)beta_per_m[]/Zc_ohm[]、(如启用)ΔZ_rad 与 Re_Zrad_min、qa_gates{check_dim,passivity,KK}。 - 硬门:Re{Z_eft}≥0、KK_consistency=pass、两口径 T_arr 一致、(启用辐射时)Re{ΔZ_rad}≥0。
VI. 可证伪准则(M10-HF 对应)
- J-HF-M10-1(去嵌/归一):不同 baseline_id/Znorm 重跑若 KPI 明显漂移且不在不确定度内,否决当前去嵌或归一配置。
- J-HF-M10-2(同步):改正前后 arg Z 与 T_group 未呈线性时间平移关系,则否决 Δt_sync 估计或采集时序。
- J-HF-M10-3(路径/到达时):两口径 T_arr 差超 u(T_arr),否决路径记录或单位口径。
- J-HF-M10-4(KPI 一致性):E_phase/GDR 与 T_group ≈ L·dβ/dω 同时失败,否决相干窗或 β 提取。
- J-HF-M10-5(辐射门):Re{ΔZ_rad}<0 或封堵后不降,否决辐射映射或几何记录。
VII. 合规模板(可直接粘贴)
- 计量链卡(YAML)
- metrology_hf:
- fixture: {method:"TRL", version:"1.2", artifact:"/artifacts/deemb.json", baseline_id:"BLSN-EDX-001"}
- Znorm_ohm: [50.0, 50.0] # or per-port vs ω
- sync: {ref:"10MHz", scheme:"shared_ref+trigger", dt_sync_s: 2.0e-12}
- binding_ref: "LAY2PATH-HF-0001"
- arrival:
- form: "n_over_c" # or "one_over_c_times_n"
- gamma: "explicit"
- measure: "d_ell"
- c_ref: 299792458.0
- Tarr_s: 1.234e-09
- u_Tarr_s: 6.0e-12
- delta_form: "n_over_c"
- sparams: "/artifacts/S.s2p"
- mapping:
- Z_eft: {real:[...], imag:[...]}
- argZ: [...]
- Zc_ohm: [...]
- kpis:
- E_phase_rad: 0.043
- GDR_s: 1.8e-10
- T_group_s: [ ... ]
- ΔW: 0.17
- radiation:
- enabled: true
- deltaZ_rad: {Re_ohm:[...], Im_ohm:[...]}
- Re_Zrad_min: 0.0
- qa_gates: {check_dim:"pass", passivity:"pass", KK:"pass"}
- 计算片段(伪代码)
- # 去嵌与归一
- S_ren = renorm(deembed(S_raw, fixture), Znorm(ω))
- # S→Z
- Z = map_S_to_Z(S_ren, Znorm(ω))
- # 相位改正与 KPI
- phi = unwrap(arg(Z) - ω*Δt_sync)
- T_group = grad(phi, ω)
- E_phase = max_abs(phi - (ω*Tarr + phi0_opt))
- GDR = max_abs(T_group - median(T_group))
- # 两口径 T_arr
- assert abs(Tarr_n_over_c - Tarr_one_over_c_times_n) <= u_Tarr
- # QA
- assert min(Re(Z)) >= 0.0 and KK_consistency(Z)
- if radiation_enabled:
- assert min(Re(ΔZ_rad)) >= 0.0
VIII. 跨章引用与闭环
- 依赖:第2章(术语与符号)、第4章(最小方程与色散)、第5章(辐射修正)、第6章(模态与基元)、第7章(相干窗 KPI)、第8章(S↔Z 映射)。
- 对接:第12章(布局与工艺规则,以 KPI 为验收)、第14章(仿真栈与算例,计量回归)、第16章(设计规程与工程清单,纳入发布门)。
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首次发布: 2025-11-11|当前版本:v5.1
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