一、【一句话目标】
围绕四维层析立方体(天区像素 × 红移切片 × 环境分层 × 公共项指标),在统一频标/时标与源端定标的前提下,对路径红移的无色散公共项进行宇宙尺度重建与检验:在标准扣除源端速度/引力红移、仪器与标定项、银河系与电离层/法拉第及前景/择样影响后,测试该公共项是否(i)跨谱线/跨波段无色散、(ii)对环境骨架(空洞 → 纤维 → 结点、外会聚/外剪切、弱透镜 κ)单调增强、(iii)在多探针与多团队/多设施间可复现并被环境前馈预测所盲化命中。若残差可由仪器漂移/谱线系综偏置/分辨率混叠/色散介质解释,或不具备跨法与跨队稳健性,则否证。
二、【要测什么】
- 公共项指标(文字化分级):
在每个天区像素—红移切片内,形成路径红移残差的方向(上抬/下压)与强度(强/中/弱)分级;要求在相邻子带与多谱线中同向。 - 无色散一致性:
对同源多谱线(窄禁线、分子/原子跃迁、21 cm、射电脉冲等)与多波段(射电/毫米/光学/近红外)比较方向与强度排序;若出现随 λ²/1/ν/法拉第规律翻向或缩放,判为介质/链路色散。 - 环境单调性:
将公共项与空洞—纤维—结点骨架、外会聚 κ/外剪切 γ/弱透镜 κ、星系密度场、到结点距离等进行增强/平台/不相关分级;检验空洞 → 纤维/结点与κ/γ/κ_weak 提升的单调增强。 - 角尺度与相关长度:
在10–30–100 Mpc等尺度平滑下,记录公共项的角相关长度与各向异性(是否出现大尺度翻转/半天球差异),并与环境模板的形态连续性比对。 - 红移分层与层析连续性:
在薄切片与厚切片两种口径下,评估公共项沿红移轴的相邻切片同向性与强度排序是否稳定;若仅在宽切片显著,提示径向混叠风险。 - 多探针闭环:
与强透镜时延/通量比统计、FRB 去色散后到达时残差、21 cm 强度映射公共项、同源多谱线整体平移(比值不变)、旋转曲线—弱透镜一致拟合等做方向与强度的一致性核验。
三、【怎么做】
- 数据域与样本族
- 光谱/成像巡天:选取大面积光谱红移与深度成像重叠区,保证广域 × 红移深度的覆盖;
- 射电/毫米/21 cm/脉冲样本:并入FRB/脉冲源去色散序列与21 cm清洗后数据;
- 环境模板:由星系三维分布与弱透镜 κ重建空洞—纤维—结点骨架,并生成κ/γ/κ_weak投影。
- 像素化与层析
- 天区像素:采用等面积像素网构建像素—红移栅格;
- 红移切片:依据光谱 z与高质量光度 z设定薄/厚两档切片;
- 环境分层:对每个像素—切片赋予环境等级与距离结点/空洞度。
- 统一定标与去系统化
- 频时基统一:光学/射电频标/时标锚定至单一外参(跨设施对时/对频),发布稳定度日志;
- 源端扣除:基于同源多谱线比值不变与窄线/星标,剥离源端速度/引力红移与内禀位移;
- 介质/前景:去除银河前景/法拉第/电离层与大气/带通影响;射电端进行去 RM/泄漏校正;
- 掩膜与耦合:统一天区掩膜并做掩膜旋转/置换以评估模式耦合。
- 公共项构建与归一
- 在每个像素—切片内,从多谱线/多波段取得路径红移残差并文字化分级;
- 以噪底/窗口函数与仪器稳定度归一,形成无量纲公共项指标并输出四维层析立方体。
- 前馈—盲化—仲裁
- 环境组(前馈):仅用环境模板与掩膜,为各像素—切片输出预测卡:公共项方向/强度/尺度与单调性;
- 测量组(独立管线):在两类以上清洗路径与两种像素/切片口径下独立产出公共项立方体与无色散/单调结论;
- 仲裁组:对齐预测卡—实测摘要,在天区/红移/环境等级/方法族维度统计命中/错向/空击率。
- 交叉一致性
- 与弱透镜 κ/星系密度/CMB 透镜 κ作交叉相关并报告是否随波段翻向;
- 与强透镜鞍点像消融过剩/通量比平滑场解释、21 cm 公共项—环境相关、绝对跨环境光速比对进行方向一致性核验。
四、【阳性/阴性对照与剥离假象】
- 阳性对照(支持路径红移公共项):
- 公共项指标在相邻子带/多谱线与多设施间同向,并随空洞 → 纤维/结点与κ/γ/κ_weak呈单调增强;
- 无色散成立:不随λ²/1/ν/法拉第规律翻向/缩放;
- 四维连续性良好:沿天区/红移呈形态连续,与环境骨架形状/走向一致;
- 前馈命中率显著高于随机,且与强透镜/FRB/21 cm等探针的方向与强度排序相容。
- 阴性对照(反对路径红移公共项):
- 残差与仪器零点/带通/温漂或银河前景/法拉第强共变,或呈明显色散律;
- 仅在单一巡天/单一路线/单一天区显著,或对掩膜/切片厚度高度敏感;
- 模板旋转/标签置换/红移打乱仍“显著”,判为方法/选择偏差。
五、【系统误差与对策(不超过三点)】
- 频标/波长零点与跨巡天拼接漂移:可假造大尺度残差。对策:跨设施重叠区闭合与实验室标准谱线锚定,发布零点稳定度与拼接偏差曲线;在双管线与留出谱线集下复算。
- 环境模板与掩膜耦合:骨架在掩膜边界处易诱发伪相关。对策:执行掩膜旋转/随机化与像素重采样,报告模板—掩膜互作用上限;对边界像素降权。
- 红移不确定度与径向混叠:光度 z 尾部与薄切片导致走样。对策:构建红移误差核,在薄/厚切片与去卷积/未去卷积两口径下比对方向一致性;对高误差子样单独报告。
六、【执行与公开】
- 预注册:像素分辨率与切片厚度、谱线与波段清单、统一定标/去系统化流程、公共项文字化分级口径、无色散/环境单调/四维连续性的判据、阳性/阴性对照与排除条款、仲裁计分规则;
- 留出与复验:为每个红移层/环境等级/天区块设留出像素/留出谱线组作最终确认;
- 跨团队/跨设施复现:互换原始测光/光谱/能见度与脚本,开展降采样/加噪/掩膜变体/模板旋转稳健性测试;
- 公开材料:发布预测卡、四维公共项立方体(文字化分级)、无色散与环境单调摘要、定标/掩膜/红移误差日志与关键中间产物;
- 与第1章(跨探针无色散公共项)、第9/21章(强透镜统计)、第23章(21 cm 公共项—环境相关)、第24章(绝对跨环境光速比对)构成路径红移—环境—多探针互证闭环并相互引用。
七、【成败线】
- 支持(通过):
- 在**≥2 套独立管线与≥2 类设施/巡天中,得到跨谱线/跨波段无色散的公共项四维层析**,其强度随空洞 → 纤维/结点与κ/γ/κ_weak呈单调增强;
- 与强透镜/FRB/21 cm等探针方向一致,前馈命中率显著高于随机;
- 结论对像素/切片/掩膜/定标口径与模板旋转/标签置换稳健。
- 否证(未通过):
- 残差呈色散律或与仪器/前景强相关,跨设施/跨团队不复现;
- 环境分层下不呈单调或四维连续性差,仲裁命中率接近随机;
- 结果对切片厚度/掩膜高度敏感,或在留出样本中消失。
说明:本章为发布版写作,采用纯文字解释与操作性描述,不含公式与图表。专业读者可据此直接实施像素—红移—环境—公共项的四维层析流程与前馈—盲化—仲裁;普通读者亦可把握“无色散、随环境单调、四维连续、跨探针复现”的核心证伪逻辑。
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首次发布: 2025-11-11|当前版本:v5.1
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