目录文档-技术白皮书19-EFT.WP.Methods.SynthData v1.0

第5章 生成引擎 II:深度生成(VAE/GAN/Flow/Diffusion)


I. 范围与对象

  1. 目标
    • 面向高维与多模态数据(图像/语音/文本/时序/图),以 VAE/GAN/Flow/Diffusion 实现高保真、可控、可审计的合成生成。
    • 保持与真实分布 p_data 的统计一致与任务效用,同时满足 DP(eps,delta)、时基/到达时一致与量纲守恒。
  2. 输入
    规范化参考数据 D_ref(见第3章)、模式 SRef、深度引擎规格 EngineSpec、隐私预算与 SLO 目标。
  3. 输出
    深度生成引擎 engine_deep(含家族、架构、权重、噪声日程)、合成样本 D_syn、指标报告与 manifest.synth.deep.*。
  4. 适用边界
    对强物理约束或精确单位守恒,优先配合第6章(物理/场景图);对低维结构化,优先第4章(统计与显式模型)。

II. 名词与变量


III. 公设 P405-*


IV. 最小方程 S405-*

  1. S405-1(VAE-ELBO)
    • ELBO(theta,phi; x) = E_{q_phi(z|x)}[ log p_theta(x|z) ] - KL( q_phi(z|x) || p(z) );
    • ELBO_beta = E_{q_phi}[ log p_theta(x|z) ] - beta * KL( q_phi(z|x) || p(z) )。
  2. S405-2(GAN/WGAN 损失)
    • min_G max_D E_x[ log D(x) ] + E_{z}[ log( 1 - D( G(z) ) ) ]。
    • WGAN : min_G max_{||f||_L ≤ 1} E_x f(x) - E_z f( G(z) ),
      GP : + lambda_gp * E_{x_hat}( ( || ∇_{x_hat} f(x_hat) ||_2 - 1 )^2 )。
  3. S405-3(Flow 变换)
    • z = f_theta(x),log p_theta(x) = log p0(z) + log | det J_f(x) |,
    • bpd = ( - log p_theta(x) ) / ( n_dims * log 2 )。
  4. S405-4(Diffusion 前向与训练)
    • x_t = ( alpha_bar_t )^{1/2} * x_0 + sigma_t * eps, eps ~ N(0,I);
    • L_simple = E_{t,x,eps}( || eps - eps_theta(x_t, t, c) ||_2^2 )。
  5. S405-5(Score-SDE 反向)
    d x = f(x,t) dt + g(t) d w_t,反向 d x = [ f - g^2 ∇_x log p_t(x) ] dt + g d w_bar_t。
  6. S405-6(CFG)
    eps_cfg = eps_theta(x_t,t,c) + w_cfg * ( eps_theta(x_t,t,c) - eps_theta(x_t,t,∅) )。
  7. S405-7(到达时两口径)
    delta_form = | ( 1 / c_ref ) * ( ∫ n_eff d ell ) - ( ∫ ( n_eff / c_ref ) d ell ) |。
  8. S405-8(DP-SGD 梯度裁剪与噪声)
    g_i ← clip( g_i, C ),ḡ = ( 1 / m ) * ( ∑ g_i ) + N( 0, ( sigma * C )^2 I ),会计器输出 eps_total。

V. 合成流程 M40-5(深度生成闭环)

  1. 就绪
    选择家族与架构(VAE/GAN/Flow/Diffusion)、目标函数与 metrics;确定 DP(eps,delta) 与 SLO。
  2. 预处理与模式绑定
    数据标准化、unit/dim 映射、tau_mono 对齐(见第3章与第2章公设);切分 train/val/test。
  3. 训练
    • VAE:重构项与 KL 的调度(beta/anneal/free-bits)。
    • GAN:WGAN-GP/SN 等稳定化;数据增广与判别器正则。
    • Flow:耦合层/仿射层、可逆性与对数行列式数值稳定。
    • Diffusion:beta_t 日程、v/eps/x0 预测头、离散或 SDE 解算器配置。
  4. 条件与可控
    定义 c 空间、CFG w_cfg 范围、拒绝采样或后验投影的成本上限。
  5. 采样与加速
    记录 NFE/solver/latency;必要时执行蒸馏(如 DPM-Solver/Consistency/Teacher-Student)。
  6. 规则与时基
    enforce_constraints 与 align_timepath(写入 offset/skew/J, T_arr, delta_form)。
  7. 评估
    • 保真:FID/KID/PR-curve/coverage;可逆/似然:bpd/NLL;VAE:ELBO/recon-PSNR;Diffusion:FVD(视频)。
    • 统计一致:见第12章度量;漂移对齐:见 CrossStats 第7章。
  8. 隐私与安全
    计算 eps_total 与 MI risk;水印与溯源。
  9. 落盘与发布
    生成 manifest.synth.deep,签名与冻结(见第13章)。

VI. 契约与断言 C40-5xx


VII. 实现绑定 I40-5*(接口原型与不变量)


VIII. 交叉引用


IX. 质量度量与风控

  1. 训练稳定性
    监控 grad_norm, loss_real/fake 差、critic_drift, KL/ELBO 曲线、bpd 趋势、NFE 与 latency_p99。
  2. 典型风险与处置
    • VAE posterior collapse → KL anneal/free-bits/hierarchical VAE。
    • GAN mode collapse/振荡 → WGAN-GP/SN, 判别器正则、数据增广、学习率/动量调参。
    • Flow 数值不稳 → 更换耦合层、约束 Lipschitz、精度提升。
    • Diffusion 过慢 → DDIM/DPM-Solver/Consistency、蒸馏与 NFE 自适应;w_cfg 过大引起漂移则回落或调参。
    • 隐私过耗 → 提升裁剪门限 C 管理、增大噪声系数、降低迭代轮次或分桶训练。

小结


版权与许可(CC BY 4.0)

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首次发布: 2025-11-11|当前版本:v5.1
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